| 氮化層厚度 | 150nm |
|---|---|
| 制備 | LPCVD |
| 表面 | 雙面氮化 |
| 特性 | 導電 |
| 用途 | 電子科研 |
| 種類 | 化合物半導體 |
| 品牌 | 特博 |
| 加工定制 | 是 |
哈爾濱特博科技有限公司是全國第二大氮化硅片供應商，對氮化硅片生產有8年以上的制備經驗。
歡迎全國貿易商以及科研高校與我司建立長期合作關系。合作雙贏。
氮化層硅片是科研領域不可缺少的實驗材料，他廣泛應用于微電子 光電子
高能物理等領域。
規格如下
品名 | 氮化層硅片 |
尺寸 | 4寸（100.2mm） |
氮化層厚度 | 40nm /50nm/150nm |
貨物類型 | 現貨供應 |
其他要求 | 可定制 |
工藝采用LPCVD--低壓CVD定制，具有均勻性好，應力低，成膜質量好等優點。
我們也提供PECVD工藝方式，如有需求，請來電咨詢。
