產(chǎn)品簡(jiǎn)介

SSPS-120型硅片CMP漿料是廣東惠爾特納米科技有限公司生產(chǎn)的高端產(chǎn)品，廣泛應(yīng)用于大尺寸硅晶片拋光工藝中。該產(chǎn)品在實(shí)際應(yīng)用中憑借濃度高、純度高、金屬離子污染低、速率穩(wěn)定性高、一致性好等性能得到了客戶(hù)的充分肯定。該產(chǎn)品投放市場(chǎng)以來(lái)受到了多家客戶(hù)的好評(píng)，目前已在國(guó)內(nèi)多家生產(chǎn)線上通過(guò)了測(cè)試，并獲得很好的應(yīng)用效果，且性能達(dá)到了美、日等進(jìn)口產(chǎn)品水平。

主要特點(diǎn)

SSPS-120型硅片CMP漿料采用我司自主合成的SiO2水溶膠作為磨料。該磨料合成過(guò)程中采用新的合成工藝和自動(dòng)化的生產(chǎn)控制，在傳統(tǒng)膠體的基礎(chǔ)上提高了粒徑均勻性和純度，專(zhuān)門(mén)應(yīng)用于高端產(chǎn)品。產(chǎn)品配制過(guò)程中采用了封閉式自動(dòng)化的配制合成方式，各種輔助試劑具有嚴(yán)格的檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)，并且進(jìn)行現(xiàn)場(chǎng)的配制合成，避免了原料存儲(chǔ)過(guò)程中的不穩(wěn)定因素導(dǎo)致產(chǎn)品質(zhì)量問(wèn)題。該漿料中添加高效拋光促進(jìn)劑在pH=10～12范圍內(nèi)緩沖性能好，并且能夠提高拋光速率和材料表面的一致性。在拋光中根據(jù)需要可以?xún)?yōu)化不同配比，均能達(dá)到**使用效果。與美國(guó)和日本的同類(lèi)產(chǎn)品相比，該類(lèi)產(chǎn)品具有濃縮度高、磨料粒徑可控、表面張力小、對(duì)有機(jī)物、金屬離子及顆粒容易清洗、拋光速率高（1.0~1.5μm/min）、高溫不出現(xiàn)非均化蝕坑、拋光一致性好等優(yōu)點(diǎn)。

主要用途

主要用于多重?cái)U(kuò)散硅片的高質(zhì)量拋光，也可用于原始鍺、石英、二氧化硅、藍(lán)寶石等材料的拋光工藝，還可用于擴(kuò)散片的拋光。

基本參數(shù)

使用方法

建議UPNM/SSPS-LJ-1606型漿料和去離子水的配比為1：15-20，也可根據(jù)實(shí)際工藝要求改變配比。

注意事項(xiàng)

1、漿料使用過(guò)程中盡量避免直接暴露，防止污染物進(jìn)入漿料中造成劃傷。

2、冬季氣溫較低（<5℃）時(shí)，漿料不可放置室外，需存放在恒溫倉(cāng)庫(kù)，一旦發(fā)生凝膠將不可使用。

3、漿料使用過(guò)程中需要及時(shí)清洗管路和器具，避免漿料長(zhǎng)期殘留在管路和容器中造成凝膠，引起晶片表面劃傷。

4、漿料循環(huán)使用時(shí)，需要在管口添加過(guò)濾裝置，以免發(fā)生凝膠而又反復(fù)應(yīng)用而造成晶片表面劃傷。

運(yùn)輸及保存

1、運(yùn)輸與存放溫度為5-40℃，25℃為**存放溫度，存放時(shí)應(yīng)避光，以避免漿料變質(zhì)。

2、保質(zhì)期一年，建議半年內(nèi)使用。

3、避免金屬、顆粒污染，避免強(qiáng)電解質(zhì)的接觸。

包裝規(guī)格

25kg/桶、50kg/桶、250kg/桶、1000kg/桶。